Nikon Nhật Bản công bố máy in thạch bản nhúng ArF thế hệ mới có độ chính xác dưới 2,1 nanomet, chi phí giảm hơn 30%
Vn-Z.vn Ngày 11 tháng 12 năm 2023, Nikon mới đây thông báo rằng họ sẽ chính thức ra mắt máy in thạch bản nhúng ArF 193 nanomet “NSR-S636E” vào tháng 1 năm 2024, giúp cải thiện hơn nữa hiệu quả sản xuất và độ chính xác của lớp phủ.
Có nguồn tin cho rằng máy in thạch bản mới của Nikon sử dụng thiết kế iAS nâng cao, có thể sử dụng để đo lường với độ chính xác cao, hiệu chỉnh cong vênh và biến dạng hình tròn, đồng thời có độ chính xác lớp phủ (MMO) cao hơn, được cho là không quá 2,1 nanomet.
Độ phân giải dưới 38 nanomet, khẩu độ ống kính là 1,35 và vùng phơi sáng là 26x33 mm. So với mẫu hiện tại, hiệu suất sản xuất tổng thể của máy mới có thể tăng 10-15%, thiết lập một đỉnh cao mới cho thiết bị in thạch bản của Nikon.
Máy in thạch bản nhúng ArF mới có thể tạo ra 280 tấm bán dẫn mỗi giờ và có thời gian ngừng hoạt động ngắn hơn. Nikon cho biết, để không làm giảm hiệu quả sản xuất, máy in thạch bản mới có thể mang lại hiệu suất cao hơn trong sản xuất chất bán dẫn đòi hỏi độ chính xác lớp phủ cao, đặc biệt là sản xuất chất bán dẫn 3D như logic và bộ nhớ tiên tiến, cảm biến hình ảnh CMOS và bộ nhớ flash 3D. Nikon gọi đây là giải pháp tốt nhất.
Được biết công nghệ nguồn sáng của máy in thạch bản mới là “i-line” đã trưởng thành từ những năm 1990. Cùng với sự trưởng thành của các bộ phận và công nghệ liên quan, giá thành sẽ rẻ hơn khoảng 20-30% so với đối thủ. Tuy nhiên, vẫn chưa rõ máy quang khắc của Nikon có thể sản xuất được bao nhiêu nanomet chip.
Máy in thạch bản nhúng ArF là một loại máy in sử dụng công nghệ ánh sáng cực ngắn để tạo ra các mẫu in chi tiết và chính xác trên các bản mạch hoặc các sản phẩm bán dẫn khác. ArF đề cập đến loại laser sử dụng khí florua argon để tạo ra ánh sáng có bước sóng cực ngắn, ở khoảng 193 nanômét.
Quá trình in thạch bản nhúng ArF thường sử dụng một lớp bản mỏng chứa hợp chất cảm quang (photoresist) để tạo ra các mô hình chi tiết trên bề mặt của vật liệu bán dẫn. Công nghệ này thường được sử dụng trong sản xuất các vi mạch và các linh kiện điện tử có độ chính xác và độ phân giải cao.
Các công ty như Nikon, Canon và ASML từ Hà Lan trước đây là ba công ty lớn trong lĩnh vực máy in thạch bản nhúng. Tuy nhiên, do sai lầm trong việc tiến triển công nghệ, Nikon và Canon đã tụt lại phía sau ASML trong việc phát triển công nghệ chiếu sáng ngâm 193 nanômét và dần suy giảm, đặc biệt là trong lĩnh vực chiếu sáng bức xạ cực cảnh báo (EUV).
Nikon và Canon về cơ bản đã từ bỏ cuộc cạnh tranh trong công nghệ chiếu sáng tiên tiến và tập trung nhiều hơn vào thiết bị chiếu sáng quá trình đã chín muồi hơn, ít khó khăn hơn và giá thành thấp hơn.
Tuy nhiên, họ vẫn đã có những bước tiến. Ví dụ, Canon đã phát triển công nghệ chiếu sáng in nano (NIL), có thể sản xuất vi mạch 5 nanômét mà không cần công nghệ EUV.
Có nguồn tin cho rằng máy in thạch bản mới của Nikon sử dụng thiết kế iAS nâng cao, có thể sử dụng để đo lường với độ chính xác cao, hiệu chỉnh cong vênh và biến dạng hình tròn, đồng thời có độ chính xác lớp phủ (MMO) cao hơn, được cho là không quá 2,1 nanomet.
Máy in thạch bản nhúng ArF mới có thể tạo ra 280 tấm bán dẫn mỗi giờ và có thời gian ngừng hoạt động ngắn hơn. Nikon cho biết, để không làm giảm hiệu quả sản xuất, máy in thạch bản mới có thể mang lại hiệu suất cao hơn trong sản xuất chất bán dẫn đòi hỏi độ chính xác lớp phủ cao, đặc biệt là sản xuất chất bán dẫn 3D như logic và bộ nhớ tiên tiến, cảm biến hình ảnh CMOS và bộ nhớ flash 3D. Nikon gọi đây là giải pháp tốt nhất.
Được biết công nghệ nguồn sáng của máy in thạch bản mới là “i-line” đã trưởng thành từ những năm 1990. Cùng với sự trưởng thành của các bộ phận và công nghệ liên quan, giá thành sẽ rẻ hơn khoảng 20-30% so với đối thủ. Tuy nhiên, vẫn chưa rõ máy quang khắc của Nikon có thể sản xuất được bao nhiêu nanomet chip.
Máy in thạch bản nhúng ArF là một loại máy in sử dụng công nghệ ánh sáng cực ngắn để tạo ra các mẫu in chi tiết và chính xác trên các bản mạch hoặc các sản phẩm bán dẫn khác. ArF đề cập đến loại laser sử dụng khí florua argon để tạo ra ánh sáng có bước sóng cực ngắn, ở khoảng 193 nanômét.
Quá trình in thạch bản nhúng ArF thường sử dụng một lớp bản mỏng chứa hợp chất cảm quang (photoresist) để tạo ra các mô hình chi tiết trên bề mặt của vật liệu bán dẫn. Công nghệ này thường được sử dụng trong sản xuất các vi mạch và các linh kiện điện tử có độ chính xác và độ phân giải cao.
Các công ty như Nikon, Canon và ASML từ Hà Lan trước đây là ba công ty lớn trong lĩnh vực máy in thạch bản nhúng. Tuy nhiên, do sai lầm trong việc tiến triển công nghệ, Nikon và Canon đã tụt lại phía sau ASML trong việc phát triển công nghệ chiếu sáng ngâm 193 nanômét và dần suy giảm, đặc biệt là trong lĩnh vực chiếu sáng bức xạ cực cảnh báo (EUV).
Nikon và Canon về cơ bản đã từ bỏ cuộc cạnh tranh trong công nghệ chiếu sáng tiên tiến và tập trung nhiều hơn vào thiết bị chiếu sáng quá trình đã chín muồi hơn, ít khó khăn hơn và giá thành thấp hơn.
Tuy nhiên, họ vẫn đã có những bước tiến. Ví dụ, Canon đã phát triển công nghệ chiếu sáng in nano (NIL), có thể sản xuất vi mạch 5 nanômét mà không cần công nghệ EUV.
