Vn-Z.vn Ngày 15 tháng 10 năm 2023, Canon mới đây đã phát hành thông cáo báo chí cho biết hãng này bắt đầu bán thiết bị sản xuất chip FPA-1200NZ2C, họ có thể sản xuất chip 5 nm bằng giải pháp khác với công nghệ quang khắc phức tạp.
Công ty Canon cho biết nguyên lý hoạt động của hệ thống sản xuất này khác với nguyên lý của ASML - công ty dẫn đầu trong ngành công nghệ ánh sáng. Thay vì sử dụng nguyên lý chiếu hình ảnh, nguyên lý của Canon giống hơn với quá trình in ấn, không dùng nguyên lý chiếu hình ảnh để chuyển đổi cấu trúc vi mô của mạch tích hợp lên wafer silic.
Bộ thiết bị này có thể được áp dụng cho wafer silic có diện tích tối thiểu là 14 mm², từ đó có thể sản xuất các vi chip tương đương với công nghệ 5 nm.
Canon tuyên bố họ sẽ tiếp tục cải tiến và phát triển hệ thống này, với hy vọng trong tương lai nó có thể được sử dụng để sản xuất vi chip công nghệ 2 nm.
Được biết , công nghệ Nanoprinted lithography (Công nghệ in ấn nano) thường được coi là một phương thức thay thế chi phí thấp cho công nghệ chiếu sáng quang học. Các nhà sản xuất vi mạch lưu trữ như SK Hynix và Kioxia đã từng cố gắng sử dụng công nghệ này. Kioxia đã tiến hành thử nghiệm trước đây, nhưng khách hàng tiềm năng đã phản đối, cho rằng tỷ lệ lỗi sản phẩm cao, cuối cùng đã quyết định từ bỏ.
Vn-Z.vn team tổng hợp tham khảo Canon
Bộ thiết bị này có thể được áp dụng cho wafer silic có diện tích tối thiểu là 14 mm², từ đó có thể sản xuất các vi chip tương đương với công nghệ 5 nm.
Canon tuyên bố họ sẽ tiếp tục cải tiến và phát triển hệ thống này, với hy vọng trong tương lai nó có thể được sử dụng để sản xuất vi chip công nghệ 2 nm.
Vn-Z.vn team tổng hợp tham khảo Canon
